כתחליף עבור Novec 71IPA

ASI 71IPA הוא ממס פלואוריד טהור בעל טוהר גבוה, המיועד לניקוי עדין ולהסרת שומנים בעומס נמוך. מהווה חלופה ידידותית לשכבת האוזון לחומרים כגון CFC-113, HCFC-141b ו־1,1,1-Trichloroethane.
הודות למתח פנים נמוך, אי-דליקות ויציבות תרמית גבוהה – מתאים במיוחד לניקוי מדויק של רכיבים מתכתיים, פלסטיים וזכוכית, בתעשיות האלקטרוניקה, האופטיקה והדיוק.

יישומים עיקריים:

• ניקוי עדין של רכיבים אלקטרוניים ואופטיים
• הסרת שמנים, גריזים, שעווה וטביעות אצבע
• ניקוי שאריות פלוקס (כולל פלוקס "ללא ניקוי") בשילוב עם ממס קו-אידוי (co-solvent)

תחומי יישום

• ניקוי רכיבי אלקטרוניקה, מעגלים מודפסים (PCB), אופטיקה ועדשות
• הסרת פלקס, שמנים, גריזים ושעוות עדינות
• ניקוי מדויק בתעשיית הרכב, הרפואה והביטחונית

The post ASI 71IPA – ממס ניקוי תעשייתי תחליף ישיר ל־3M Novec™ 71IPA appeared first on ASI Technologies.

Modern HFE co-solvent cleaning processes are available options if a short process, drying time and/or water-free cleaning is required.  This is often utilized in the military and aerospace industries. HFEs (hydrofluoroethers) were developed as a replacement for CFCs or similar solvents exhibiting the following properties: nonflammable, non-conductive, dries quickly and residue-free.

With a co-solvent, HFE is used in a cleaning bath with spray-under-immersion or ultrasonic agitation in order to dissolve persistent residues. The rinsing step takes place in a bath with HFE only and subsequently with steam rinsing. The substrates are then dried by intensive cooling. This process must be carried out in a cleaning machine with efficient cooling technology, preventing the evaporation of HFE.

The post Zestron | HFE Water-free Co-Solvent appeared first on ASI Technologies.